Las lechadas de sílice coloidal y CMP son abrasivos de pulido final relativamente blandos con una alta actividad química. Son ideales para el pulido químico mecánico (CMP). La actividad química de la sílice coloidal resulta del equilibrio electroquímico (potencial zeta) requerido para evitar que las partículas finas se agreguen. Este equilibrio químico produce un fenómeno de superficie que hace que la superficie de la muestra sea más reactiva. En consecuencia, esta capa reaccionada se elimina mediante los propios abrasivos de sílice coloidal o mediante un fregado mecánico de la superficie con otros abrasivos y / o la almohadilla de pulido.
Abrasivos de pulido de alúmina
Hay varios tipos diferentes de abrasivos de pulido de alúmina. Estos abrasivos se clasifican por su proceso de fabricación, estructura cristalina (dureza) y su proceso de clasificación. Los principales tipos de alúmina producidos para pulir son alúmina calcinada o policristalina. Los polvos calcinados también se pueden caracterizar como alúmina fundida, en placas o levigada (clasificada / dimensionada al aire) dependiendo de la forma del grano, la pureza y el proceso de clasificación. Existe una diferencia importante en el rendimiento entre los abrasivos de alúmina calcinada y policristalina, especialmente para los tamaños de partícula submicrónicos. Las dos estructuras cristalinas comunes son la alúmina alfa más dura (dureza mohs 9) y la estructura cristalina gamma más blanda (dureza mohs 8).
Alúmina / propiedad | Policristalino | Calcinado | Fusionado | Levigado |
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Estructura cristalina | Alúmina alfa policristalina | Alúmina alfa monocristalina | Alúmina alfa | Gamma monocristalino o alfa |
Forma | Plaquetas hexagonales | Plaquetas hexagonales | ||
Tamaño de partícula | 0.05 micrones | Submicrón hasta 30 micrones | 5-70 micrones | 3-5 micrones (clasificado para aire) |
pH | 4 y 10 | Rango de 8-11 | 9.0-10.5 | |
% sólidos | 20-30% | |||
Gravedad específica | 3,95 gramos / cc | 3,95 gramos / cc | 3,95 gramos / cc | 3,95 gramos / cc |
Dureza | Knoop 2000 (Mohs 9) |
Knoop 2000 (Mohs 9) |
Knoop 2000 (Mohs 9) | Mohs 8,9 |
Aplicaciones | pH 4 (ácido) – pulido de metales pH 10 (básico) – pulido de cerámica |
Pulimentos de alúmina Linde A, Linde B y Linde C |